上海微高精密机械工程有限公司由中国电子科技集团公司第45研究所与上海微电子装备有限公司于2003年在上海成立的合资公司。公司以中电集团第45研究所第一研究室技术团队为基础组建。45所第一研究室从“六五”起一直从事光刻机的研制开发工作，先后完成我国“六五”、“八五”、“九五”期间的1.5微米、0.8微米、0.5微米光刻机的研制任务，承担并完成了国家、部委各项光刻机相关的研制开发任务，为我国军用集成电路装备的研制做出了重要贡献。

公司主营业务为光刻机关键核心分系统研制开发，二手半导体设备翻新、再造、技术服务、备品备件销售。

公司主要承担“十五”863重大专项“100nm光刻机”中的“工件台掩模台系统、掩模硅片自动对准系统、掩模硅片自动传输与预对准系统”等六个核心分系统的研制开发；“十一五”起，继续承担国家02重大专项中“90nm光刻机”上述六个核心分系统的研制开发任务。在二手半导体设备业务方面，专注于光刻机和轨道系统的翻新改造与技术服务，累计翻新Nikon光刻机超过100台，数台轨道系统，用户有主流大厂，中电集团研究所，航天研究所，学校及其他特殊用户，其工艺种类覆盖硅、砷化镓、蓝宝石、铌酸锂、LED、OLED等应用领域。与国际上几乎所有半导体二手设备供应商建立了良好的业务关系，可及时得到半导体二手设备市场信息，备品备件资源充足。